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6英寸勻膠顯影機(jī) ACD6
SPIN COATER&DEVELOPER
設(shè)備配置 2C2D、4C、4D
襯底材質(zhì) Si、Sapphire、GaAs、InP、GaN、SiC、LT、LN等
適用工藝 G-line、i-line、PI
應(yīng)用領(lǐng)域 MEMS、功率器件、射頻集成、光通訊、LED、科研等
設(shè)備尺寸 1500*1450*2200mm(W*D*H)
技術(shù)特征：
襯底材質(zhì) Si、Sapphire、GaAs、InP、GaN、SiC、LT、LN等
適用工藝 G-line、i-line、PI
應(yīng)用領(lǐng)域 MEMS、功率器件、射頻集成、光通訊、LED、科研等
設(shè)備尺寸 1500*1450*2200mm(W*D*H)
技術(shù)特征：
· 設(shè)備故障、生產(chǎn)工藝參數(shù)等記錄等可長(zhǎng)期保存?zhèn)洳椋?/font>
· 光刻膠采用精密計(jì)量泵供應(yīng)，精度高，供液穩(wěn)定，出膠量設(shè)定方便；
· 可做兩種尺寸完全兼容，不需要更換零件；
· 可選配光刻膠顯影液溫控，HMDS等單元部件；